Material la nivel înalt Silicon Metal 97

Metal de siliciu 97este utilizat pe scară largă în contactul dintre sursă, scurgere și electrod de poartă și metal în dispozitivele microelectronice și este unul dintre materialele cheie pentru prepararea circuitelor integrate Nano. Poate fi, de asemenea, utilizat pentru compoziția fazelor, reacția de interfață și mecanismul de formare a silicidului metalic funcțional pentru circuitele integrate cu semiconductor, precum și evaporarea termică, implantarea ionică, depunerea sputterului, epitaxia fasciculului molecular și alte tehnologii de preparare.

1.Metoda directă a pulberii cu curent cu curent a fost utilizată pentru a filma spectroscopie în atmosfera de argon, pentru a elimina interferența benzii de siliciu și beriliu a fost utilizat ca standard intern pentru a determina direct 12 elemente de impuritate dinSilicon Metal 97,care a fost mai simplu de funcționat, mai rapid și mai puțin consum de reactiv decât spectrometria chimică. În comparație cu metoda chimică și spectrofotometria, poate determina 12 elemente în același timp, ceea ce poate reflecta mai bine conținutul adevărat de metal de siliciu. Metalul silicon a fost preparat cu succes prin reducerea carbon-termică a cenușei de coajă de orez și efectul C/SiO2 Raportul de masă pe prepararea metalului de siliciu a fost investigat, iar probele au fost caracterizate prin metode de testare XRD și RA-Man. Rezultatele arată că atunci când raportul de masă al C/SiO2 este 1: 2,5, faza principală cristalină a eșantionului este metalul de siliciu, ceea ce reduce costul producției de metal de siliciu și oferă o nouă modalitate pentru utilizarea resurselor de cenușă de coajă de orez.

Tag-uri populare: Material la nivel înalt Silicon Metal 97, China Material la nivel înalt Silicon Metal 97 Producători, Furnizori, Fabrica