Material la nivel înalt Silicon Metal 2502

Un material și o metodă de preparare cu un siliciur metalic, aMetal de siliciu 2502nanostructură, care cuprinde o nanostructură de siliciu metalic fabricată pe un substrat SOI; Grosimea stratului dielectric izolator al acestui substrat SOI este de 100-1000 nm, iar grosimea filmului de siliciu este de 50-500 nm. Metoda de preparare include curățarea, uscarea, acoperirea prin centrifugare fotorezistent pozitiv, expunerea, dezvoltarea și fixarea și apoi fabricarea structurii modelului de mască a nanostructurii necesare pe suprafața filmului subțire de siliciu a substratului SOI.

1.un material și o metodă de preparare cu un siliciur metalic, asiliciu metalic 2502nanostructura, care cuprinde o nanostructură de siliciu metalic fabricat pe un substrat SOI; Grosimea stratului dielectric izolant al acestui substrat SOI este 100-1000 nm, iar grosimea filmului de siliciu este 50-500 nm. Metoda de preparare cuprinde faptul că substratul SOI este curățat, uscat, acoperit cu spin cu fotorezist pozitiv, expus, dezvoltat și fix, iar structura modelului de mască a nanostructurii necesare este fabricată pe suprafața de film subțire de siliciu a substratului SOI. Gravura reactivă cu ioni este utilizată pentru a grava filmul de siliciu de pe substratul SOI în nanostructura necesară, adâncimea gravurii este grosimea filmului de siliciu și apoi pe stratul izolant care conține nanostructura de siliciu, filmul metalic necesar pentru formarea de formarea de formarea de formarea de siliciu Silicidul metalic este depus, iar apoi metalul și siliciul reacționează în faza solidă prin recoacere la temperaturi ridicate pentru a forma silicid metalic, iar metalul nereacționat este îndepărtat prin coroziune chimică, adică se formează nanostructura de silicid metalic. Metoda este simplă și poate controla poziția și scara nanostructurii.

Tag-uri populare: material de nivel înalt silicon metal 2502, China material de nivel înalt silicon metal 2502 producători, furnizori, fabrică